一种超宽截止的六氟化硫红外滤光片及其制备方法
授权
摘要
本发明涉及一种超宽截止的六氟化硫红外滤光片及其制备方法。本发明采用一种超宽截止膜系，结合干涉截止膜系的宽截止特性和窄带膜系的高透过性，通过多层膜导纳匹配方法，利用匹配膜层叠加干涉截止膜系和窄带膜系，达到超宽截止的目的，制备超宽截止的六氟化硫红外滤光片具有膜系截止区域宽，膜系稳定误差小，且兼具通带高透过的优势特性。具体滤光片基底材料选用单晶Si，折射率n＝3.42881；高折射率材料选用Ge，折射率n＝4.16422；低折射率材料选用ZnS，折射率n＝2.3。本发明提供的10640nm红外滤光片，峰值透过率达92％以上，1000～13000nm范围内的其余光谱全部截止，很好的抑制其他气体的干扰，提高仪器探测精度和效率。
基本信息
专利标题 ：
一种超宽截止的六氟化硫红外滤光片及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113341491A
申请号 ：
CN202110622694.2
公开（公告）日 ：
2021-09-03
申请日 ：
2021-06-04
授权号 ：
CN113341491B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
侯海港刘军林乔冠军刘桂武郝俊操崔智超
申请人 ：
微集电科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区苏州金鸡湖大道99号苏州纳米城中北区23幢214室（该地址不得从事零售）
代理机构 ：
合肥市泽信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
方荣肖
优先权 ：
CN202110622694.2
主分类号 ：
G02B5/20
IPC分类号 ：
G02B5/20 G02B5/28 C23C14/16 C23C14/06 C23C14/30 C23C14/26
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/20
滤光片
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2021-09-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/20
申请日 : 20210604
申请日 : 20210604
2021-09-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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