基于双层平板探测器锥束CT的散射校正方法及装置
授权
摘要
本申请公开了一种基于双层平板探测器锥束CT的散射校正方法及装置,该方法包括:采集第一平板探测器和第二平板探测器上扫描物体的扫描数据;建立第一平板探测器和第二平板探测器探测到的散射射线强度与每层散射光子等效能量之间的第一关系,建立第一平板探测器和第二平板探测器的投影数据与每层散射光子等效能量之间的第二关系;根据第一关系和第二关系求解第一平板探测器和第二平板探测器探测到的关于射线总强度的方程,得到第一平板探测器和第二平板探测器探测到的散射射线强度;去除扫描数据中的散射射线强度,以利用去除后的扫描数据对扫描物体进行重建。由此,去除扫描数据中的散射数据,从而保证双层平板探测器物质分解的有效性。
基本信息
专利标题 :
基于双层平板探测器锥束CT的散射校正方法及装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113237903A
申请号 :
CN202110661232.1
公开(公告)日 :
2021-08-10
申请日 :
2021-06-15
授权号 :
CN113237903B
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
高河伟顾珊张丽邢宇翔李亮邓智
申请人 :
清华大学
申请人地址 :
北京市海淀区清华园
代理机构 :
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
孙立波
优先权 :
CN202110661232.1
主分类号 :
G01N23/046
IPC分类号 :
G01N23/046
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
G01N23/046
应用X光断层技术,如计算机X光断层技术
法律状态
2022-06-10 :
授权
2021-08-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/046
申请日 : 20210615
申请日 : 20210615
2021-08-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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