一种含V元素的NiAl基合金薄壁构件的成形制备方法
授权
摘要
本发明提供了一种含V元素的NiAl基合金薄壁构件的成形制备方法，属于高温合金成形技术领域。本发明的成形制备方法包括以下步骤：将包括Ni层、V层和Al层的叠层材料置于模具中依次进行真空热成形和真空扩散反应，得到NiAl基合金薄壁构件。本发明在真空扩散反应中，Ni与Al反应生成NiAl基体，利用金属V可以固溶进入NiAl基体，也可与NiAl基体形成金属间化合物强化相，进而提高NiAl基合金薄壁构件的高温强度。
基本信息
专利标题 ：
一种含V元素的NiAl基合金薄壁构件的成形制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113430487A
申请号 ：
CN202110695246.5
公开（公告）日 ：
2021-09-24
申请日 ：
2021-06-23
授权号 ：
CN113430487B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
苑世剑王东君刘钢
申请人 ：
哈尔滨工业大学
申请人地址 ：
黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
代理机构 ：
北京高沃律师事务所
代理人 ：
刘丹丹
优先权 ：
CN202110695246.5
主分类号 ：
C23C10/28
IPC分类号 ：
C23C10/28 C23C14/16 C23C14/35 C23C10/20 C22C19/03 B32B37/10 B32B37/06 B32B37/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10/00
金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10/28
使用固体，例如粉末、膏剂的
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2021-10-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 10/28
申请日 : 20210623
申请日 : 20210623
2021-09-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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