纳微米级植硅体新型PMMA复合材料及其制备工艺
授权
摘要
本发明公开了纳微米级植硅体新型PMMA复合材料及其制备工艺，所述PMMA复合材料包含以下重量份的组分：PMMA填充剂0.1～0.5份、甲基丙烯酸甲酯50～75份和过氧化二苯甲酰0.1～0.2份；其中，所述PMMA填充剂为植硅体粉末，或者所述PMMA填充剂为植硅体粉末和白炭黑粉末，所述植硅体含量为纳微米级植硅体新型PMMA复合材料总质量的0.2～0.6％；当所述PMMA填充剂为植硅体粉末和白炭黑粉末，所述植硅体粉体：白炭黑粉体的重量比例为1.5～2.5:1。本发明提供了一种纳微米级植硅体新型PMMA复合材料，采用纳微米级的植硅体粉体粉末和白炭黑粉体作为填充原料，并辅以粉体改性，提高PMMA制备产品的多元化，同时提高PMMA复合材料的力学性能和热力学性能。
基本信息
专利标题 ：
纳微米级植硅体新型PMMA复合材料及其制备工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113429720A
申请号 ：
CN202110826992.3
公开（公告）日 ：
2021-09-24
申请日 ：
2021-07-21
授权号 ：
CN113429720B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
王先广王平肖玉如肖宗梁李冬梅谢宗茂李之锋丁能文洪佳斌王凯王方哲周露辉汤兴
申请人 ：
江西省矿产资源保障服务中心;江西理工大学;江西省煤田地质局一九五地质队
申请人地址 ：
江西省南昌市团结路66号
代理机构 ：
广州蓝晟专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨晓冰
优先权 ：
CN202110826992.3
主分类号 ：
C08L33/12
IPC分类号 ：
C08L33/12 C08K9/06 C08K3/36 C08K7/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L33/00
具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物的组合物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且只有1个仅以1个羧基或它的盐，酐，酯，酰胺，酰亚胺或腈作为终端；此种聚合物的衍生物的组合物
C08L33/04
酯的均聚物或共聚物
C08L33/06
只含有碳、氢及氧的酯，而氧原子只作为羧基部分存在
C08L33/10
甲基丙烯酸酯的均聚物或共聚物
C08L33/12
甲基丙烯酸甲酯的均聚物或共聚物
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2021-10-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08L 33/12
申请日 : 20210721
申请日 : 20210721
2021-09-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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