一种噻吩并喹诺酮类化合物及其制备方法和应用
授权
摘要
本发明属于医药领域，具体讲，涉及一种噻吩并喹诺酮类化合物及其制备方法和应用。本发明的噻吩并喹诺酮类化合物的结构式如式I所示。本发明获得了如式I所示的噻吩并喹诺酮类化合物，不仅对CDK5抑制活性较高，并且具有良好的水溶性。
基本信息
专利标题 ：
一种噻吩并喹诺酮类化合物及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113429422A
申请号 ：
CN202110846090.6
公开（公告）日 ：
2021-09-24
申请日 ：
2021-07-26
授权号 ：
CN113429422B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
王丽韫史卫国王永安周琥张涛任凤霞张晶鑫
申请人 ：
中国人民解放军军事科学院军事医学研究院
申请人地址 ：
北京市海淀区太平路27号院
代理机构 ：
北京丰浩知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
董亚男
优先权 ：
CN202110846090.6
主分类号 ：
C07D495/04
IPC分类号 ：
C07D495/04 A61K31/4365 A61P25/00 A61P25/28 A61P39/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D495/00
杂环化合物，在稠环系中至少有1个杂环具有硫原子作为仅有的杂环原子
C07D495/02
在稠环系中含有两个杂环
C07D495/04
邻位稠合系
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2021-10-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 495/04
申请日 : 20210726
申请日 : 20210726
2021-09-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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