一种基于自旋波衍射效应的探测界面DM作用强度的方法
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摘要

本发明公开了一种基于自旋波衍射效应的探测界面DM作用强度的方法,属于自旋电子学领域。本发明基于在一定条件下,最强衍射束偏转角的正弦值与DM作用常数近似满足简单的线性关系,通过测量最强衍射束偏转角的正弦值来测量DM作用常数,不需要分辨自旋波波长变化,测量方法不受波长分辨率的限制,因而可以适用于更宽频率范围(20GHz到100GHz,以坡莫合金波导系统为例)的自旋波下的DM作用强度的测量,突破了传统BLS等方法对波长分辨率的限制,这对于未来研究基于界面DM作用的自旋波特别是交换自旋波有着很大的作用。

基本信息
专利标题 :
一种基于自旋波衍射效应的探测界面DM作用强度的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113589205A
申请号 :
CN202110854339.8
公开(公告)日 :
2021-11-02
申请日 :
2021-07-28
授权号 :
CN113589205B
授权日 :
2022-05-20
发明人 :
谢丽娜沈茂康聂彦张悦王韬王鲜
申请人 :
华中科技大学
申请人地址 :
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 :
华中科技大学专利中心
代理人 :
夏倩
优先权 :
CN202110854339.8
主分类号 :
G01R33/12
IPC分类号 :
G01R33/12  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/12
测量物品的磁性或者固体或流体样品的磁性
法律状态
2022-05-20 :
授权
2021-11-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01R 33/12
申请日 : 20210728
2021-11-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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