本发明涉及晶圆再生技术领域，公开了一种晶圆再生处理装置，包括底座，底座上设有可水平和竖直方向旋转摆动的夹持臂，夹持臂的内部设有与环形侧壁共轴的转盘，夹持臂的一侧设有用于驱动转盘旋转的电机，转盘的两侧对称设有环形结构的抛光盘，两个抛光盘对应转盘的一侧均设有可拆卸的抛光垫，抛光盘远离转盘的一侧设有直线驱动机构；转盘沿周向设有多个放置晶圆的存放孔，抛光盘远离抛光垫的一侧均设有用于晶圆抛光用的抛光油供油装置和晶圆清洗用的清洗液供液装置，还设有油液回收装置。本发明还提出一种晶圆再生控制系统，本发明可有效提高再生晶圆表面氧化物腐蚀效果的稳定性，提高晶圆再生的处理效率以及晶圆再生的品质。