一种石墨烯/金属有机框架复合光响应器件的制备方法
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摘要
一种石墨烯/金属有机框架复合光响应器件的制备方法，它涉及一种光响应器件的制备方法。本发明的目的是要解决现有方法制备的光响应器件的光吸收率和响应率低的问题。制备方法：一、制备表面为还原氧化石墨烯的SiO2/Si片；二、蒸镀电极；三、制备金属有机框架，得到石墨烯/金属有机框架复合光响应器件。本发明制备的石墨烯/金属有机框架复合光响应器件的光响应效率为1.8A/W～3.3A/W，光响应时间为10s～30s。本发明可获得一种石墨烯/金属有机框架复合光响应器件。
基本信息
专利标题 ：
一种石墨烯/金属有机框架复合光响应器件的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113737152A
申请号 ：
CN202111035389.X
公开（公告）日 ：
2021-12-03
申请日 ：
2021-09-02
授权号 ：
CN113737152B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
方小应曹丽丽高广智徐婉婷纪德清郭晓昱
申请人 ：
黑龙江八一农垦大学
申请人地址 ：
黑龙江省大庆市高新区新风路5号
代理机构 ：
哈尔滨市松花江专利商标事务所
代理人 ：
李红媛
优先权 ：
CN202111035389.X
主分类号 ：
C23C16/26
IPC分类号 ：
C23C16/26 C08G83/00 C23C14/04 C23C14/18 C23C14/24 C23C14/58 C23C28/00
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2021-12-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/26
申请日 : 20210902
申请日 : 20210902
2021-12-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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