处理容器和液体处理装置
实质审查的生效
摘要
本发明构思提供了一种基板处理装置。所述基板处理装置包括：处理容器，所述处理容器包括外杯和放置在所述外杯内侧的内杯，所述内杯和所述外杯组合限定用于回收液体的回收路径；放置在所述处理容器内的可旋转旋转头，在所述旋转头上放置清洗夹具；其中所述处理容器包括从所述外杯的内表面突出的第一突出部，以将从所述清洗夹具散落的清洗液引向所述内杯的表面。
基本信息
专利标题 ：
处理容器和液体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114334714A
申请号 ：
CN202111150835.1
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金大城卢尚垠张镐镇朴在训
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
钟锦舜
优先权 ：
CN202111150835.1
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/687
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20210929
申请日 : 20210929
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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