用于离焦点型工艺的具有投影图案的计量系统
实质审查的生效
摘要

提供了一种计量系统,其包括用于离焦点型工艺的投影图案。所述计量系统包括物镜部分、光源、图案投影部分和相机。具有不同放大率和截止频率的不同透镜(例如,物镜)可以用于所述系统中。所述图案投影部分包括具有图案的图案分量。所述图案的至少大部分区域包括不以规则间隔重复出现在所述图案上的图案部分(例如,对应于在所需范围内产生相对平坦的功率谱并且可以与具有不同截止频率的不同透镜一起利用的空间频率的不同频谱)。所述图案被投影在工件表面上(例如,用于产生对比度),并且获取图像堆栈,从所述图像堆栈确定指示工件表面点的三维位置的聚焦曲线数据。

基本信息
专利标题 :
用于离焦点型工艺的具有投影图案的计量系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114440787A
申请号 :
CN202111246621.4
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2021-10-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
S.R.坎贝尔L.雷德拉斯基
申请人 :
株式会社三丰
申请人地址 :
日本神奈川县
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
贺紫秋
优先权 :
CN202111246621.4
主分类号 :
G01B11/24
IPC分类号 :
G01B11/24  G01B11/25  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/24
申请日 : 20211026
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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