显示装置和制造显示装置的方法
公开
摘要
公开了一种显示装置和制造显示装置的方法，所述显示装置包括：基体基底；缓冲层，设置在基体基底上；有源层，设置在缓冲层上；第一栅极绝缘层，设置在有源层上；第一导电层，设置在第一栅极绝缘层上并且是包括铝合金的单层；第二栅极绝缘层，设置在第一导电层上；第二导电层，设置在第二栅极绝缘层上并且是包括铝合金的单层；绝缘层间层，设置在第二导电层上；以及第三导电层，设置在绝缘层间层上，通过限定在绝缘层间层和第二栅极绝缘层中的第一栅极接触孔与第一导电层直接接触，并且通过限定在绝缘层间层中的第二栅极接触孔与第二导电层直接接触。
基本信息
专利标题 ：
显示装置和制造显示装置的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114497142A
申请号 ：
CN202111295306.0
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-11-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李东敏姜泰旭成炫阿杨受京宋都根申铉亿
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道龙仁市
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
张晓
优先权 ：
CN202111295306.0
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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