反应器和相关方法
公开
摘要
描述了可用于蚀刻和/或沉积材料的系统和相关方法。在一些实施例中，系统包括外室和内室。内室可以包括下室部分和上室部分，它们可以在关闭位置和打开位置之间相对于彼此移动。上室部分和下室部分可以在关闭位置邻接。上室部分和下室部分还可以在打开位置限定开口。
基本信息
专利标题 ：
反应器和相关方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114496707A
申请号 ：
CN202111318151.8
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-11-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A.阿尔宁克A.科瓦尔金P.J.C.希伦
申请人 ：
特文特大学;ASMIP私人控股有限公司
申请人地址 ：
荷兰恩斯赫德
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
焦玉恒
优先权 ：
CN202111318151.8
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 C23C16/44 C23C16/455 C23C16/50 C23C16/505
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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