偏硼酸的制造方法和使用该偏硼酸的仲醇的制造方法以及仲醇的...
公开
摘要
本发明提供能够稳定地制造偏硼酸的方法。另外，本发明通过提供反应性良好、即生产效率良好的连续式的建立方法来提供生产效率良好的仲醇的制造方法。另外，本发明提供用于制造偏硼酸的反应器。所述偏硼酸的制造方法包括i)在饱和脂肪族烃的存在下用脱水器将原硼酸脱水，得到包含偏硼酸、饱和脂肪族烃和水的混合物；ii)将饱和脂肪族烃和水从所述混合物中馏去后将饱和脂肪族烃和水分离；iii)使ii)工序中分离出的饱和脂肪族烃返回到i)工序中，在i)工序中饱和脂肪族烃中的醇成分的含量低于2质量％。所述仲醇的制造方法使用通过所述偏硼酸的制造方法而制造的偏硼酸，反应器包含能够切换为间歇式和连续式的2个以上的反应器。
基本信息
专利标题 ：
偏硼酸的制造方法和使用该偏硼酸的仲醇的制造方法以及仲醇的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114506853A
申请号 ：
CN202111357949.3
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-11-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
渡边明正山内晶子
申请人 ：
株式会社日本触媒
申请人地址 ：
日本国大阪府大阪市中央区高丽桥4丁目1番1号
代理机构 ：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 ：
龚敏
优先权 ：
CN202111357949.3
主分类号 ：
C01B35/10
IPC分类号 ：
C01B35/10 C07C29/52 C07C29/12 C07C31/125 B01J19/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B35/00
硼; 其化合物
C01B35/08
含硼和氮、磷、氧、硫、硒或碲的化合物
C01B35/10
含硼和氧的化合物
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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