涂覆有抗裂氟退火膜的制品及制造方法
实质审查的生效
摘要
本申请涉及涂覆有抗裂氟退火膜的制品及制造方法。提供与具有优异的抗等离子体蚀刻性且可延长RIE组件的使用寿命的涂层相关的制品及方法。制品具有真空兼容衬底及覆盖所述衬底的至少一部分的保护膜。所述膜包括含钇的氟化金属氧化物，其中使用AC电源沉积氧化钇。所述膜在所述膜的30％总厚度的深度处具有至少10的氟原子％，并且所述膜不具有当使用激光共聚焦显微镜以1000倍的放大率观察所述膜的整个深度时可见的在所述膜的表面下方的表面下裂纹。
基本信息
专利标题 ：
涂覆有抗裂氟退火膜的制品及制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114517284A
申请号 ：
CN202111367249.2
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2021-11-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
N·困达劳季钧S·J·安杰洛尼W·内夫
申请人 ：
恩特格里斯公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李婷
优先权 ：
CN202111367249.2
主分类号 ：
C23C14/08
IPC分类号 ：
C23C14/08 C23C14/58 H01J37/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/08
氧化物
法律状态
2022-06-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/08
申请日 : 20211118
申请日 : 20211118
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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