磁性构件的制造方法及磁性构件
公开
摘要
本发明提供一种磁性构件的制造方法，能够制造在基材与磁性层之间具有足够的层间强度且更薄的磁性构件，从而提供一种薄的、即使弯曲也难以破损的磁性构件。本发明涉及的磁性构件的制造方法包括：准备具有正面和背面的基材的步骤，在所述正面上形成有增粘涂层；在所述增粘涂层上形成复合磁性层的步骤。
基本信息
专利标题 ：
磁性构件的制造方法及磁性构件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114568008A
申请号 ：
CN202111403924.2
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2021-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大宫忠志阿部正和
申请人 ：
株式会社东金
申请人地址 ：
日本宫城县
代理机构 ：
北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
袁波
优先权 ：
CN202111403924.2
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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