测量系统和程序
公开
摘要
本发明提供便于对测量仪器设置测量条件并抑制测量误差或测量故障的测量系统和程序。测量系统包括：测量对象信息数据库，用于将测量点信息与测量对象的类型相关联地存储，测量点信息包括各个测量点的测量条件和引导信息；测量仪器，用于对测量对象进行测量；摄像单元，用于拍摄被摄体的图像；显示单元；测量对象识别单元，用于基于摄像单元所拍摄的图像来识别测量对象的类型；测量对象信息获得单元，用于从测量对象信息数据库获得与测量对象识别单元所识别的测量对象的类型相对应的测量点信息；以及设置单元，用于将测量对象信息获得单元所获得的测量点信息中包括的引导信息显示在显示单元上，并在测量仪器上设置测量点信息中包括的测量条件。
基本信息
专利标题 ：
测量系统和程序
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114593698A
申请号 ：
CN202111418217.0
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2021-11-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
浅水隆考清水政明
申请人 ：
株式会社三丰
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202111418217.0
主分类号 ：
G01B11/30
IPC分类号 ：
G01B11/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/275
••用于检测轮子准直度
G01B11/30
用于计量表面的粗糙度和不规则性
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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