显示母板、显示母板的制造方法与显示面板
实质审查的生效
摘要
本公开提供了一种显示母板及其制造方法与显示面板,显示母板包括:阵列基板、彩膜基板、第一隔垫物和第二隔垫物。阵列基板包括面板区和围绕所述面板区的切割区,所述面板区包括显示区和围绕所述显示区的边框区;彩膜基板与所述阵列基板对盒设置;第一隔垫物位于所述阵列基板的所述边框区与所述彩膜基板之间;第二隔垫物位于所述阵列基板的所述切割区与所述彩膜基板之间,且所述第二隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离,大于所述第一隔垫物背离所述阵列基板的一端与所述阵列基板之间的距离。本公开提供的显示母板,能够改善漏光。
基本信息
专利标题 :
显示母板、显示母板的制造方法与显示面板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114415404A
申请号 :
CN202111422503.4
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2021-11-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张荡周逸琛代俊锋陈麒仝远喻翔吴伟陈炎朱陶和张伊伊刘翔
申请人 :
武汉京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东西湖区五环大道1011号
代理机构 :
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 :
王辉
优先权 :
CN202111422503.4
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333 G02F1/1339 G02F1/1335 G02F1/1362
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1333
申请日 : 20211126
申请日 : 20211126
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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