一种双层多频点聚焦透镜超表面阵列
实质审查的生效
摘要

本发明涉及一种双层多频点聚焦透镜超表面阵列,属于人工电磁领域。该聚焦透镜超表面阵列,包括“工”字形离散单元和双“T”形离散单元;每个离散单元包括两层单层单元结构和空气介质层;每个离散单元从上至下包括第一金属片、第一介质板、第二金属片、空气介质层、第三金属片、第二介质板和第四金属片;所述聚焦透镜超表面阵列是平面结构,沿xoy坐标水平放置。本发明的双层多频点聚焦透镜超表面阵列单元结构采用电容耦合臂结构作为金属层,单元覆盖的带宽更宽,相对于传统超表面透镜能减少一层介质的堆叠。利用两种不同的离散介质单元结构对透射相位进行调节,相对于传统相移单元设计更加灵活,对电磁波的操控精度更高。

基本信息
专利标题 :
一种双层多频点聚焦透镜超表面阵列
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114284746A
申请号 :
CN202111458116.6
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
阮巍凌沁璇汪竹唐逸豪黄文冉佳郝宏刚
申请人 :
重庆邮电大学
申请人地址 :
重庆市南岸区黄桷垭崇文路2号
代理机构 :
北京同恒源知识产权代理有限公司
代理人 :
廖曦
优先权 :
CN202111458116.6
主分类号 :
H01Q15/02
IPC分类号 :
H01Q15/02  
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01Q 15/02
申请日 : 20211202
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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