真空规颗粒阻挡结构
实质审查的生效
摘要

本发明涉及真空度测量技术领域,提供一种真空规颗粒阻挡结构,包括壳体、基层挡板和至少一层叠加层挡板,壳体的一侧适于固定薄膜电极,壳体的另一侧形成有空气通道;基层挡板设置在壳体内靠近空气通道一侧,并与壳体固定连接,基层挡板上设置有第一通气口,第一通气口在垂直于空气通道的延伸方向上与空气通道错位设置;叠加层挡板设置在基层挡板靠近薄膜电极的一侧,并与壳体固定连接,叠加层挡板上设置有第二通气口,第二通气口在垂直于空气通道的延伸方向上与第一通气口错位设置。本发明提供的真空规颗粒阻挡结构,基层挡板和叠加层挡板共同作用,对薄膜电极起到良好的防护作用,有效避免颗粒物到达薄膜电极并在薄膜电极上沉积。

基本信息
专利标题 :
真空规颗粒阻挡结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114264403A
申请号 :
CN202111468150.1
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-03
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘旭强林立男陶硕张琳琳高乐唐嫒尧廖兴才
申请人 :
北京晨晶精仪电子有限公司
申请人地址 :
北京市平谷区中关村科技园区平谷园马坊工业园2区21号
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
白袖龙
优先权 :
CN202111468150.1
主分类号 :
G01L21/00
IPC分类号 :
G01L21/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L21/00
真空计
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01L 21/00
申请日 : 20211203
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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