一种用于基坑土方开挖内支撑底部附着层清除装置及方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种用于基坑土方开挖内支撑底部附着层清除装置及方法,包括主框架,主框架顶部下方设置有多个驱动轮;主框架一侧的顶部安装两个钻杆安装装置,钻杆安装装置可以上下和旋转调节,两个钻杆安装装置底部分别连接螺旋钻和铣刨钻,另一侧设有钻杆套筒安装装置,钻杆套筒安装装置底部分别连接螺旋钻安装套筒和铣刨钻安装套筒,螺旋钻和铣刨钻另一端分别连接螺旋钻安装套筒和铣刨钻安装套筒,螺旋钻安装套筒和铣刨钻安装套筒内设有驱动装置。本发明可以同时进行内支撑底部的破除以及磨平效果,使用螺旋钻破除底部垫层可以消除垫层附着的安全隐患,使用铣刨钻对垫层底部进行磨平可以极大改善观感质量,安全和质量可以同步保障。

基本信息
专利标题 :
一种用于基坑土方开挖内支撑底部附着层清除装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114277801A
申请号 :
CN202111497260.0
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
江荣威聂明明胡新琦
申请人 :
中国一冶集团有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市青山区工业路3号
代理机构 :
武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
黄靖
优先权 :
CN202111497260.0
主分类号 :
E02D17/04
IPC分类号 :
E02D17/04  E02D17/02  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : E02D 17/04
申请日 : 20211209
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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