一种高分子材料表面增亮耐磨镀膜工艺及其制得的光学镀膜
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种高分子材料表面增亮耐磨镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：镀氮化硅打底层步骤：在待镀膜工件表面通过溅射镀膜，镀氮化硅打底层；镀光学膜层步骤：在氮化硅打底层上镀氮化硅和碳化硅合金膜层，然后在氮化硅和碳化硅合金膜层上镀氮化硅过渡层，作为一个光学周期，镀光学膜层步骤包括若干光学周期；镀耐磨层步骤：在光学镀膜层上镀氮化硅和碳化硅合金膜层，通过上述设置，氮化硅和碳化硅合金膜层放在两层氮化硅之间，可以消除氮化硅膜层本身的应力；用氮化硅和碳化硅合金膜层作为外观膜层，能够提供更高的膜层折射率，提升膜层的光泽度和亮度，耐磨性好。本发明还公开了采用上述工艺制得的光学镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种高分子材料表面增亮耐磨镀膜工艺及其制得的光学镀膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114351084A
申请号 ：
CN202111499911.X
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
深圳市恒鼎新材料有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福永街道福永社区福海B2区A2栋202
代理机构 ：
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈坚
优先权 ：
CN202111499911.X
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C14/06 C23C14/35 G02B1/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/02
申请日 : 20211209
申请日 : 20211209
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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