显示面板、阵列基板、光刻胶及其制备方法
实质审查的生效
摘要
显示面板、阵列基板、光刻胶及其制备方法。本发明提供了一种液晶显示面板的光刻工艺，光刻胶及其制备方法。光刻胶以丙烯酸类聚合物为主体，并在主体上引入官能团‑(CH2)n‑Ph‑(COOH)m，从而降低了曝光时间，提升了生产效率。
基本信息
专利标题 ：
显示面板、阵列基板、光刻胶及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114460807A
申请号 ：
CN202111510540.0
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2021-12-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王辉田尚益崔承镇廖辉华宋智辉姜庆李荣荣
申请人 ：
长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市浏阳经济技术开发区康平路109号
代理机构 ：
深圳市隆天联鼎知识产权代理有限公司
代理人 ：
王荣
优先权 ：
CN202111510540.0
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G02F1/1333
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20211210
申请日 : 20211210
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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