本发明涉及镀膜技术领域，具体为一种溅镀镀膜设备，包括箱体、固定连接在箱体一侧壁的固定杆、靶材支架、靶材、基片支架和基片，靶材固定安装在靶材支架的一侧，基片支架设于远离靶材一端的箱体内，基片固定安装在基片支架的一侧，所述箱体的侧壁上开设有两个对称设置的滑槽，所述基片支架的两端均固定安装有滚轮，且滚轮在滑槽的内部滑动。本发明通过设置第一活塞、第一伸缩杆等机构，镀膜开始前基片支架处于滑槽中部的平衡位置，通过观察指针所指刻度，并且根据镀膜材料的特性向第一活塞与箱体之间的空间充入或者释放氩气用来调节第一活塞的位置，实现对基片位置的调节，达到对基片镀膜时的均匀性。