超高天堑崖壁建造及地貌复原治理施工方法
公开
摘要

本发明涉及一种超高天堑崖壁建造及地貌复原治理施工方法,包括如下步骤:对边坡结构进行岩体爆破以减缓边坡结构的坡度;对边坡结构进行加固处理;于边坡结构的上部施工塑石结构并覆土配置植物;于边坡结构的下部施工干挂天然砂岩块,利用挂设的天然砂岩块对天堑崖壁的机理复原。本发明能够兼顾边坡处理的施工安全性及园林美观性,对边坡结构进行岩体爆破减缓边坡结构的坡度进而在进行加固能够确保边坡结构的安全性,有效提高边坡的自稳性。在生态恢复方面,采用塑石结构覆土配置植物,能够依据原有生态状态来适应山体形状变化,实现边坡景观绿化和生态恢复的要求,天然砂岩块的挂设能够恢复高边坡崖壁肌理,实现天然崖壁颜色还原,贴近自然。

基本信息
专利标题 :
超高天堑崖壁建造及地貌复原治理施工方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114622577A
申请号 :
CN202111553565.9
公开(公告)日 :
2022-06-14
申请日 :
2021-12-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
孙晓阳颜卫东于健伟张帅李赟边辉房晓宇余少乐余清江吴光辉华中兴钱禹行吴振东
申请人 :
中国建筑第八工程局有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区世纪大道1568号27层
代理机构 :
上海唯源专利代理有限公司
代理人 :
宋小光
优先权 :
CN202111553565.9
主分类号 :
E02D17/20
IPC分类号 :
E02D17/20  E02D15/02  E02D33/00  E02D5/74  E02D29/02  F42D3/04  F42D1/00  B44C5/06  B44C3/04  B44C3/02  A01G9/02  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/20
边坡或斜坡的稳定
法律状态
2022-06-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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