一种固态钽电解电容器及其ALD制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种全固态钽电解电容器器件及其ALD制备方法,制备方法包括:使用小电流密度对阳极钽块的Ta2O5介质层进行进一步补形成;使用ALD法在阳极钽块的Ta2O5介质层表面上沉积导电氧化物薄膜;使用导电碳浆、银浆及银丝对沉积的导电阴极层进行阴极电极引出。本发明采用ALD制备导电氧化物阴极薄膜的方法,避免传统液相法中酸性物质及强氧化剂等对Ta2O5介质层带来损害的同时,制备的氧化物阴极材料具有更高的电导率、良好的温宽性、更高的孔隙覆盖率、更强的附着力、大面积的均匀性及优良的致密性等特征,且该沉积过程中无还原性气体及等离子体对Ta2O5介质层产生损害,促进固态钽电解电容器朝小型化、高容量引出率、高频低阻抗及耐高温长寿命的全面发展。

基本信息
专利标题 :
一种固态钽电解电容器及其ALD制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114267541A
申请号 :
CN202111572757.4
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杜显锋郭媛熊礼龙
申请人 :
西安交通大学
申请人地址 :
陕西省西安市咸宁西路28号
代理机构 :
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 :
安彦彦
优先权 :
CN202111572757.4
主分类号 :
H01G9/025
IPC分类号 :
H01G9/025  H01G9/042  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01G
电容器;电解型的电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件
H01G9/00
电解电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件;其制造方法
H01G9/004
零部件
H01G9/022
电解质;吸收体
H01G9/025
固体电解质
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01G 9/025
申请日 : 20211221
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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