坩埚融料前添加膜料装置
公开
摘要
本申请涉及一种坩埚融料前添加膜料装置，包括：底座、连接于底座的坩埚、与驱动源连接的转动机构、融料件、添料组件和限位组件；添料组件连接于转动机构且能够在转动机构的带动下相对坩埚转动，添料组件包括转动连接的料筒和下料座，下料座设有漏料孔，料筒和下料座中之一与转动机构相连，限位组件用于料筒和下料座之另一进行限位；当限位组件对下料座或料筒限位时，转动机构转动能够带动料筒和下料座相对转动以使料筒相对漏料孔移动并选择地连通。上述方案中仅通过旋转转动机构就可以实现坩埚融料时添加膜料，不需要打开镀膜机门就可以操作，相较于现有技术中坩埚融料完成后开门添加膜料，操作更加方便，生产效率更高。
基本信息
专利标题 ：
坩埚融料前添加膜料装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114293152A
申请号 ：
CN202111581959.5
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金笛许晓枭王武洋
申请人 ：
维达力实业（赤壁）有限公司;万津实业（赤壁）有限公司
申请人地址 ：
湖北省咸宁市赤壁市经济开发区中伙光谷产业园
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
姚莉娟
优先权 ：
CN202111581959.5
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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