焦点校正方法、装置、系统、计算机设备和可读存储介质
实质审查的生效
摘要
本申请涉及一种焦点校正方法、装置、系统、计算机设备和可读存储介质,该方法通过获取校正模体在目标微焦点射线源的第一投影图像和第二投影图像,确定第一投影图像的第一质心坐标,以及第二投影图像的第二质心坐标;根据第一质心坐标和第二质心坐标,确定目标微焦点射线源的焦点偏移量;根据焦点偏移量对目标微焦点射线源进行校正处理。本申请提供的焦点校正方法无需依靠焦点的工作参数对焦点进行校正,可以提高对焦点校正的效果。
基本信息
专利标题 :
焦点校正方法、装置、系统、计算机设备和可读存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114324423A
申请号 :
CN202111602020.2
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
梁鼎
申请人 :
武汉联影生命科学仪器有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号武汉新能源研究院大楼G2-103室(自贸区武汉片区)
代理机构 :
北京华进京联知识产权代理有限公司
代理人 :
唐德君
优先权 :
CN202111602020.2
主分类号 :
G01N23/046
IPC分类号 :
G01N23/046 G06T7/66 G06T7/70
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
G01N23/046
应用X光断层技术,如计算机X光断层技术
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/046
申请日 : 20211224
申请日 : 20211224
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载