用于沉积含硅膜的有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷
实质审查的生效
摘要
本文公开了具有至少两个硅原子和两个氧原子以及有机氨基基团的氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷以及用于制备所述低聚硅氧烷的方法。本文还公开了使用所述有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷沉积含硅和氧的膜的方法。
基本信息
专利标题 ：
用于沉积含硅膜的有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318291A
申请号 ：
CN202111612772.7
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2018-02-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
萧满超M·R·麦克唐纳雷新建王美良
申请人 ：
弗萨姆材料美国有限责任公司
申请人地址 ：
美国亚利桑那州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
吴亦华
优先权 ：
CN202111612772.7
主分类号 ：
C23C16/40
IPC分类号 ：
C23C16/40 C23C16/455 C07F7/21 C07F7/18 C07F7/10 B65D81/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/30
沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C16/40
氧化物
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/40
申请日 : 20180208
申请日 : 20180208
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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