气体室及其调节方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供了气体室及其调节方法,所述气体室包括怀特腔,所述怀特腔具有第一光学窗口、第二光学窗口、气体进口和气体出口,第一反射镜和第二反射镜设置在怀特腔内的一侧,第三反射镜设置在怀特腔内的另一侧;光源发出的检测光在第一光反射器件上的反射光穿过第一光学窗口进入怀特腔内,在第一反射镜、第三反射镜和第二反射镜上来回反射,之后穿过第二光学窗口,被第二光反射器件反射到探测器;第一光反射器件设置在第一导轨上,所述第二光反射器件设置在第二导轨上;驱动单元用于驱动所述第一光反射器件在第一导轨上平移,以及驱动所述第二光反射器件在第二导轨上平移,使得第一光反射器件和第二光反射器件平移方向相反,且平移距离相同。本发明具有光程调节准确等优点。
基本信息
专利标题 :
气体室及其调节方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114486744A
申请号 :
CN202111633147.0
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
沈婷婷沈兴超於有利付亮蔡敏谢耀
申请人 :
聚光科技(杭州)股份有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市滨江区滨安路760号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202111633147.0
主分类号 :
G01N21/03
IPC分类号 :
G01N21/03
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
G01N21/03
透明小容器结构
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/03
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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