一种用于透明薄膜的双面UV压印装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种用于透明薄膜的双面UV压印装置，涉及压印装置的技术领域。一种用于透明薄膜的双面UV压印装置包括下压印组件、点胶组件和上压印组件；下压印组件包括支撑台和抬升件；支撑台上设有下表面微纳纹理结构；支撑台内设有LED面阵光源；抬升件连接支撑台的底部；点胶组件连接下压印组件的侧面；上压印组件连接下压印组件的上方，上压印组件设有上表面微纳纹理结构。解决了涂覆的紫外(UV)硬化树脂导致介质的上下表面平整度差；只能用于小幅面的介质；加工效率低，制造成本高的问题。本发明利用上表面微纳纹理结构、下表面微纳纹理结构实现对薄膜卷材双面UV压印，底部LED面阵光源单次曝光，提高了生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于透明薄膜的双面UV压印装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114355725A
申请号 ：
CN202111634392.3
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郑伟伟薛玉龙申溯胡立伟胡祖元
申请人 ：
苏州印象镭射科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中经济开发区兴中路28号
代理机构 ：
北京中仟知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
周庆佳
优先权 ：
CN202111634392.3
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 B65H75/44 B65H75/40 B65H20/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/00
申请日 : 20211229
申请日 : 20211229
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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