一种分子筛的制备方法及其生产设备
公开
摘要
本发明公开了一种分子筛的制备方法及其生产设备，属于分子筛制备技术领域，包括依次垂直安装于一体的顶壳体、中壳体和底壳体，所述顶壳体内部顶端一侧固定焊接有第一侧支撑板，所述顶壳体顶端与所述第一侧支撑板相匹配设置有进料口，所述第一侧支撑板内部设置有用于原料均分的分散机构，所述顶壳体内部顶端远离所述第一侧支撑板一侧固定焊接有第一支撑端板，所述第一侧支撑板与所述第一支撑端板之间设置有用于分子筛抛光的打磨机构，所述顶壳体外侧面固定安装有用于驱动所述打磨机构的驱动机构；它可以实现将分子筛表面进行充分的打磨清理，使得其表面更加光滑，降低残料的残留概率，提高分子筛质量，同时对不同粒径的分子筛进行分离。
基本信息
专利标题 ：
一种分子筛的制备方法及其生产设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114454067A
申请号 ：
CN202111643020.7
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
邹宁邹烨宇杨跃华龙文一罗敏于向明
申请人 ：
岳阳慧璟新材料科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省岳阳市岳阳县荣湾镇工业大道生态工业园3号
代理机构 ：
长沙智德知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
卢钟廷
优先权 ：
CN202111643020.7
主分类号 ：
B24B27/033
IPC分类号 ：
B24B27/033 B24B27/00 B24B55/12 B07B1/28 B07B1/42 B07B1/46
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B27/00
其他磨床或装置
B24B27/033
用于清理目的的磨削表面，如清除氧化皮或磨掉表面裂纹
法律状态
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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