阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置
实质审查的生效
摘要

本申请提供一种阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置;阵列基板包括:基板;数据线和扫描线,数据线和扫描线的数量为多个,数据线和扫描线交叉设置于基板上,相邻两数据线与相邻两扫描线在基板上限定形成像素区域;像素电极,设于像素区域;薄膜晶体管,设于像素区域;薄膜晶体管包括栅电极、栅极绝缘层、半导体层和源漏极;栅电极设于基板上,栅极绝缘层覆盖于栅电极,半导体层对应栅电极设于栅极绝缘层上,源漏极设于半导体层上;源漏极包括源极和漏极,源极和漏极中的一者与数据线电连接、另一者与像素电极电连接;所述源极与所述漏极之间形成沟道,源极和漏极的材料与像素电极的材料相同。

基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制造方法、显示面板和显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326232A
申请号 :
CN202111646144.0
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴伟
申请人 :
广州华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 :
广东省广州市黄埔区(中新广州知识城)亿创街1号406房之417
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
杨艇要
优先权 :
CN202111646144.0
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1362
申请日 : 20211230
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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