弱印痕提取算法、装置、设备和介质
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种弱印痕提取算法、装置、设备和介质。根据模板图像中的弱印痕区域，确定待检测图像中的待检测区域，并从待检测图像中提取待检测区域所在的待检测子图像；根据待检测子图像确定辅助子图像，并根据辅助子图像对待检测子图像进行增强处理，得到增强子图像；提取所述增强子图像中的缺陷像素，得到备选缺陷区域；对备选缺陷区域中像素进行筛选，得到弱印痕提取结果。可以通过增强子图像有效的提高弱印痕和待检测图像正常区域的对比度，从而提高弱印痕提取的准确度。
基本信息
专利标题 ：
弱印痕提取算法、装置、设备和介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114354623A
申请号 ：
CN202111651789.3
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林少波时广军周钟海姚毅杨艺
申请人 ：
苏州凌云视界智能设备有限责任公司;苏州凌云光工业智能技术有限公司;凌云光技术股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区长阳街259号钟园工业坊A1-1F,A0-1F东侧一半
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
王瑞云
优先权 ：
CN202111651789.3
主分类号 ：
G01N21/88
IPC分类号 ：
G01N21/88
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/88
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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