一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架
实质审查的生效
摘要
本发明为解决现有光学镀膜工件架无法在短时间内、低成本地通过一次作业完成多基片多角度的镀膜的问题，提供了一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架。本发明包括环形挂盘组件、多个基片载台和环形载台固定架；所述挂盘组件和载台固定架并排拼接构成工件架架体；所述工件架架体的拼接面上平行设置有多组相对的枢转槽，所述基片载台的两端分别安装在相对的一组枢转槽内，且基片载台能够自由转动；所述环形挂盘组件用于与镀膜伞架连接。
基本信息
专利标题 ：
一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318239A
申请号 ：
CN202111652929.9
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
赵华龙宇磊磊赵卫夏高飞薛利军
申请人 ：
中国科学院西安光学精密机械研究所;西安中科微星光电科技有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号
代理机构 ：
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 ：
赵逸宸
优先权 ：
CN202111652929.9
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50 C23C14/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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