一种双面铝基板以及其加工工艺
实质审查的生效
摘要
本申请涉及电子元器件技术领域,尤其是涉及一种双面铝基板以及其加工工艺,旨在解决现有技术双面板的两面均布设有线路,导致双面板的发热效率增大,常规结构可能难以应对增大的散热负担,容易发生线路板损坏等问题的问题,其技术方案是一种双面铝基板,包括两层平行设置的表面铜层,两层表面铜层之间设有散热介质层,散热介质层与表面铜层之间设有绝缘介质层,本申请具有提高面板结构的散热效率,降低发生损坏的可能性的效果。
基本信息
专利标题 :
一种双面铝基板以及其加工工艺
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114390773A
申请号 :
CN202111655572.X
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
宋小凡吴晓东陈世杰
申请人 :
江苏迪飞达电子有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市相城区黄桥街道木巷村(旺盛路中环高架往西100米)
代理机构 :
北京维正专利代理有限公司
代理人 :
韩冰
优先权 :
CN202111655572.X
主分类号 :
H05K1/02
IPC分类号 :
H05K1/02 H05K3/00
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05K 1/02
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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