本实用新型公开的一种激光熔覆设备，涉及激光熔覆技术领域，以解决现有的激光熔覆设备管路外置缠绕，造成外包络尺寸较大，难以适应狭窄空间内的运动的技术问题。所述激光熔覆设备包括：激光发生器、光线调节装置、冷却管道以及熔覆喷头；光线调节装置包括壳体以及位于壳体内的准直模块，聚焦模块和反射模块；壳体具有光线入口和光线出口，激光发生器的激光发射口位于光线入口，准直模块、聚焦模块和反射模块依次沿着激光发生器发射的激光光路延伸方向分布，熔覆喷头设在壳体上光线出口的部位；冷却管道至少位于壳体中，用于对聚焦模块和反射模块进行降温。本实用新型提供的激光熔覆设备用于内孔熔覆或狭窄空间的激光熔覆。