多级入射孔几何对准腔式光/粒子准直系统
授权
摘要
本实用新型属于等离子体和光学技术领域,具体涉及一种多级入射孔几何对准腔式光/粒子准直系统。本实用新型包括屏蔽罩、屏蔽层、探测器和探测器信号引线,屏蔽罩为封闭的空心腔体,在屏蔽罩顶部正中心位置,开有圆形初级入射孔,屏蔽罩内部被若干屏蔽层分割成小腔室,每个屏蔽层上都开有与初级入射孔在相同并在同一直线上的入射孔,探测器放置在腔体底部最后一层隔板的入射孔正下方,探测器信号引线穿过腔体接入数据采集分析设备。本实用新型不仅能够收集从等离子体中某一特定区域或者视线上发射/逃逸出的光谱或粒子,入射孔所在的隔板和外屏蔽构成腔体还对杂散光和粒子进行较为彻底的吞噬和吸收。
基本信息
专利标题 :
多级入射孔几何对准腔式光/粒子准直系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202120714312.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-04-08
授权号 :
CN216562484U
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
于利明陈伟石中兵刘亮卢杰
申请人 :
核工业西南物理研究院
申请人地址 :
四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号
代理机构 :
核工业专利中心
代理人 :
董和煦
优先权 :
CN202120714312.4
主分类号 :
G21K1/02
IPC分类号 :
G21K1/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
G21K1/02
使用光阑、准直器
法律状态
2022-05-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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