氢硼膜
授权
摘要
本实用新型提供了一种氢硼膜，该氢硼膜包括：至少三层膜体和至少两个结合结构；其中，每层膜体均具有预设厚度，各层膜体依次层叠设置，任意相邻两层膜体之间均通过一个结合结构相连接。本实用新型中，氢硼膜通过至少三层膜体依次层叠设置，任意相邻两侧膜体之间均通过一个结合结构相连接，使得各层膜体连接在一起而形成氢硼膜，并且，每层膜体均具有一定的厚度，有效地缓解了膜层内部和膜层之间的应力，增强了各膜层之间的结合，有效地降低了膜层应力，提高了氢硼膜的自支撑能力和强度，防止氢硼膜出现裂纹和爆膜。
基本信息
专利标题 ：
氢硼膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202120775125.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-04-15
授权号 ：
CN216579516U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
赵冠超魏彦存耿金峰孟垂舟陈培培
申请人 ：
新奥科技发展有限公司
申请人地址 ：
河北省廊坊市经济技术开发区华祥路新源东道新奥科技园南区
代理机构 ：
北京工信联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
芦玲玲
优先权 ：
CN202120775125.7
主分类号 ：
B32B9/00
IPC分类号 ：
B32B9/00 B32B9/04 B32B3/06 B32B3/30 G21B1/11
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B32
层状产品
B32B
层状产品，即由扁平的或非扁平的薄层，例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品
B32B9/00
实质上由不包含在组B32B11/00至B32B29/00的特殊物质组成的层状产品
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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