一种多晶硅生产用氢气除杂系统及多晶硅生产系统
授权
摘要
本实用新型提供一种多晶硅生产用氢气除杂系统及多晶硅生产系统，除杂系统包括淋洗塔和冷凝器，淋洗塔下部用于储存沸腾的三氯氢硅，且设有进气管，进气管用于供氢气通入沸腾的三氯氢硅中，以使其内部分水与三氯氢硅反应；淋洗塔的上部设有喷淋结构，用于将三氯氢硅雾化，从沸腾的三氯氢硅中逸出的气相与雾化的三氯氢硅接触，至逸出的气相内剩余的水与三氯氢硅反应，以得到除水的气相；冷凝器与淋洗塔顶部相连，用于对除水的气相冷凝，以将其内的汽化三氯氢硅液化，从而得到除杂的氢气。采用本实用新型进行氢气干燥，能在不引入外界杂质的前提下，将多晶硅生产用氢气中的水分干燥至1PPm以下。
基本信息
专利标题 ：
一种多晶硅生产用氢气除杂系统及多晶硅生产系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202120971611.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-05-08
授权号 ：
CN216155481U
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
武珠峰吴昌勇宋高杰张治锦刘兴平宋正平潘从伟
申请人 ：
内蒙古新特硅材料有限公司;新特能源股份有限公司
申请人地址 ：
内蒙古自治区包头市土默特右旗新型工业园区
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
罗建民
优先权 ：
CN202120971611.6
主分类号 ：
C01B3/52
IPC分类号 ：
C01B3/52 C01B3/50 C30B35/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B3/00
氢；含氢混合气；从含氢混合气中分离氢；氢的净化
C01B3/50
氢或含氢气体从混合气体中的分离，如净化
C01B3/52
用与液体接触法；所用液体的再生
法律状态
2022-04-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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