一种应用于盖模凸位清理的机构
授权
摘要
本实用新型公开一种应用于盖模凸位清理的机构，包括清理凸位辊结构，清理凸位辊结构包括用于清理盖膜凸位的第二凹槽，第二凹槽能够与盖模凸位相适配。本实用新型设置清理凸位辊结构，清理凸位辊结构上设置第二凹槽，第二凹槽上能够与盖模的凸位相适配，使清理凸位辊结构能够专门用于清理盖模的凸位位置，使盖模清理更加干净，清理效果更好。
基本信息
专利标题 ：
一种应用于盖模凸位清理的机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121026784.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-05-13
授权号 ：
CN216609477U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
雷德意刘剑张奎
申请人 ：
佛山德亚创智科技有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市南海区丹灶镇江沥北路南沙工业村一期厂房2
代理机构 ：
广东南越商专知识产权代理有限公司
代理人 ：
许春兰
优先权 ：
CN202121026784.7
主分类号 ：
B28B21/76
IPC分类号 ：
B28B21/76 B28B21/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B28
加工水泥、黏土或石料
B28B
黏土或其他陶瓷成分的成型；熔渣的成型；含有水泥材料的混合物的成型，例如灰浆
B28B21/00
专门适用于制造管状制品的方法或机械
B28B21/76
型模
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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