一种反射微透镜阵列成像装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种反射微透镜阵列成像装置，包括一层微结构阵列、一层透明薄膜、一层第二微透镜阵列和一层反射材料体；微结构阵列包括第一微透镜阵列或微图形阵列；第二微透镜阵列由多个子透镜排布而成；第一微透镜阵列由多个子透镜排布而成，且该排布方式与第二微透镜阵列中的子透镜的排布方式相同；微图形阵列由多个子图形排布而成，且该排布方式与第二微透镜阵列中的子透镜的排布方式相同等；本实用新型实现了图像的裸眼动态显示，可以实现更加轻薄的系统结构，实现了对微透镜的保护，较少磨损，延长装置使用寿命，能够降低制造成本。
基本信息
专利标题 ：
一种反射微透镜阵列成像装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121320248.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-06-11
授权号 ：
CN216351315U
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
谢志梅王德麾姜世平董小春钟勇
申请人 ：
四川芯辰光微纳科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市武侯区科华北路141号附1号308
代理机构 ：
成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人 ：
贾年龙
优先权 ：
CN202121320248.8
主分类号 ：
G02B3/00
IPC分类号 ：
G02B3/00 G02B17/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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