本实用新型涉及酸洗设备技术领域，具体为一种硅片生产用具有调节结构的酸洗装置，包括工作架、废液池、酸洗架和调控架，所述调控架的一侧开设有滑动槽，所述滑动槽的内部活动连接有活动杆，所述活动杆的一端固定连接有第一连接块，所述第一连接块的表面开设有卡槽。通过设置的酸洗板、活动杆和振动机可以实现对半导体单晶硅片进行更加快速高效的酸洗操作，在使用时工作人员首先将配置好的稀硝酸溶液倒入至酸洗架内，然后再将需要进行酸洗操作的半导体单晶硅片均匀的摆放在酸洗板之上，此时工作人员可以通过活动杆带动整体酸洗板向下滑动，使得半导体单晶硅片进入酸洗架内的稀硝酸溶液进行酸洗操作。