臭氧发生腔体和臭氧发生装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种臭氧发生腔体，包括：外壳、线槽、风扇、以及封盖。外壳为中空的多边形柱体结构设置。外壳的内壁设有沿外壳的延伸方向设置的第一滑槽和第二滑槽。第一滑槽和第二滑槽设置在外壳的内腔的斜对角方向上。线槽设有连通外壳的内腔的第一走线孔。本实用新型还提供一种臭氧发生装置。本实用新型的有益效果为：可以将臭氧发生片倾斜安装在外壳的内腔中，利用风扇产生的气流可以带动臭氧不停地流向出气口，避免了臭氧滞留在外壳的内腔中，从而削弱了臭氧对臭氧发生片上的电子元器件的损伤，在无需硅胶密封的情况下，起到保护电子元器件的作用，延长设备的使用寿命，降低电子元器件的拆卸困难，降低检修和更换电子元器件的难度。
基本信息
专利标题 ：
臭氧发生腔体和臭氧发生装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121801645.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-03
授权号 ：
CN216481488U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
狄云
申请人 ：
东莞市维邦云计算技术有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市凤岗镇东深路凤岗段51号4栋702室
代理机构 ：
深圳市壹壹壹知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
阮帆
优先权 ：
CN202121801645.7
主分类号 ：
F24F8/26
IPC分类号 ：
F24F8/26 F24F8/30 F24F8/80 B60H3/00 C01B13/11
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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