一种高精度氢气瓶正压检漏装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种高精度氢气瓶正压检漏装置,包括壳体、换气结构、侦测采样管、锁紧机构和检测气瓶固定机构,壳体一侧安装有换气机构所包含的干燥压缩空气瓶,干燥压缩空气瓶出口安装有手阀和出气管,出气管分别贯穿安装在壳体一侧壁和环形恒温板上并深入筒槽内一侧,壳体另一侧壁上、中、下贯穿安装有3根侦测采样管,侦测采样管在位于壳体外侧汇集并接入外部的氦气采样侦测系统,壳体顶部安装有密封门,密封门一侧活动端通过锁紧机构实现密封锁闭,壳体纵向两侧壁上对称贯穿安装有检测气瓶固定机构,通过以上结构实现控制气瓶检漏装置内保持恒温和恒湿,提升检测准确率,设置上、中、下三组采样口提升覆盖率和确保侦测采样数据准确性。
基本信息
专利标题 :
一种高精度氢气瓶正压检漏装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121920991.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-08-17
授权号 :
CN216284147U
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
杨伟龙周宇姜允宝杨坤黄宗平
申请人 :
安徽伽德罗工业技术有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市高新区习友路1799号(博雷电气南边)四号厂房4幢车间101/201/301室
代理机构 :
上海恩凡知识产权代理有限公司
代理人 :
吴尧晓
优先权 :
CN202121920991.7
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2022-04-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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