工业废气处理用便于清理内部杂质的低温等离子体设备
授权
摘要
本实用新型涉及工业废气技术领域，具体揭示了工业废气处理用便于清理内部杂质的低温等离子体设备，包括箱体，所述箱体内壁左侧的顶部连通有进气管，所述箱体内壁的右侧连通有出气管，所述箱体内壁顶部的中心处固定连接有等离子发生器，所述箱体内腔的两侧均安装有过滤网本体，所述箱体底部的中心处固定连接有伺服电机。本实用新型通过伺服电机带动转轴转动，通过转轴的转动带动转盘转动，通过转盘的转动带动调节杆转动，通过调节杆的转动带动敲打块转动，通过敲打块的转动对过滤网本体表面的杂质进行敲打，达到了便于清理内部杂质的优点，解决了现有的低温等离子设备在使用时不便于清理内部杂质功能的问题。
基本信息
专利标题 ：
工业废气处理用便于清理内部杂质的低温等离子体设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121953735.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-19
授权号 ：
CN216149288U
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
余炽傍
申请人 ：
余炽傍
申请人地址 ：
广东省广州市增城区新塘镇东坑四横路7号乐嘉大厦11层1117室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202121953735.8
主分类号 ：
B01D46/74
IPC分类号 ：
B01D46/74 B01D53/32
法律状态
2022-04-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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