本实用新型涉及镭射清洁领域，特别指干式镭射清洗设备，包括机台，所述机台上设有置物平台，以及光纤镭射模组、镭射清洗模组、供电模组和控制模组，所述光纤镭射模组、镭射清洗模组分别与控制模组电性连接；所述镭射清洗模组设有轴向轨道组，所述轴向轨道组上滑动连接有一承接座，所述承接座上设有镭射光刀，所述镭射光刀通过光纤与光纤镭射模组连接。本实用新型的干式镭射清洗设备，采用多轴向移动轨道进行激光清洁作业，可进行实时监测调整激光参数以及移动轨迹，清洁高效全面，具有优异的清洁效果，本结构光转换率高，耐震动，低损耗，维护成本低，具有较长的使用寿命。