胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置
授权
摘要
本实用新型公开了胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，包括底架及固定连接在底架上侧的搅拌筒，所述搅拌筒下壁且居中位置固定连接有出料口以及用于控制出料口通断的出料阀；上盖，所述上盖固定连接在搅拌筒上端。本实用新型，通过驱动电机带动四组逐渐增大的搅拌叶对原料液进行搅拌并向下推动，旋转中的原料液外层通过内胆层内侧壁的螺旋槽形成向上螺旋升起的逆流，并通过内翻挡板再次返回到搅拌叶附近参与搅拌，形成循环路线，搅拌非常彻底，不会有死角，通过上下分别设置的第一温度传感器和第二温度传感器，实时检测原料温度，当发现温度不足时，通过控制与之相邻的电加热组件进行加热升温，使原料液始终保持一定温度。
基本信息
专利标题 ：
胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121979278.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-23
授权号 ：
CN216224191U
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
何礼鑫
申请人 ：
浙江恩森化学科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市桐乡市屠甸镇轻纺工业园区
代理机构 ：
嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
廖银洪
优先权 ：
CN202121979278.X
主分类号 ：
B01F35/71
IPC分类号 ：
B01F35/71 B01F27/191 B01F35/213 B01F21/10
法律状态
2022-04-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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