一种阴离子表面活性剂均相分散装置
授权
摘要
本实用新型是一种阴离子表面活性剂均相分散装置，包括底板和设于底板上的箱体，箱体内壁上部设有隔板，隔板将箱体内部分为搅拌腔和工作腔，搅拌腔底部设有出液管，出液管上设有阀门，搅拌腔底壁内部铺设有电加热管，底板两端分别设有用于盛放分散相的储液箱一和用于盛放分散介质的储液箱二，搅拌腔两侧内壁上对应设有若干凹槽，凹槽内设有喷嘴，储液箱一和储液箱二上设有与对应喷嘴连接的进液机构，搅拌腔内设有可上下升降的搅拌机构，且工作腔内设有驱动搅拌机构升降的动力机构。本实用新型搅拌均匀，阴离子表面活性剂分散效果好。
基本信息
专利标题 ：
一种阴离子表面活性剂均相分散装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122044320.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-27
授权号 ：
CN216171858U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
肖志涛黄林海刘景旭田晓龙杨超
申请人 ：
天津天智精细化工有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区经济技术开发区汉沽现代产业园翠薇街18号
代理机构 ：
天津市新天方专利代理有限责任公司
代理人 ：
尹小莲
优先权 ：
CN202122044320.5
主分类号 ：
B01F31/40
IPC分类号 ：
B01F31/40 B01F35/30 B01F35/71
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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