消毒装置及基站
授权
摘要
本公开提供了一种消毒装置，用于对容器中所容纳的液体进行消毒，并且容器设置在供表面清洁设备停靠的基站内，包括：光源，光源发射用于消毒的光线；导光部，导光部设置在容器的内部并且在容器的内部延伸，将光源发出的光线在容器的内部进行引导，以便通过光线对容器的内部所容纳的液体进行消毒。本公开还提供了一种基站。
基本信息
专利标题 ：
消毒装置及基站
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122045175.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-27
授权号 ：
CN216168949U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
黎少将龚永杰唐成段飞钟亮
申请人 ：
北京顺造科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区安宁庄东路16号院1号楼1层101
代理机构 ：
北京庚致知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李伟波
优先权 ：
CN202122045175.2
主分类号 ：
A61L2/10
IPC分类号 ：
A61L2/10 A61L2/08 A47L11/40 A47L11/28 C02F1/30 C02F1/32
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61L
材料或消毒的一般方法或装置；空气的灭菌、消毒或除臭；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的化学方面；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的材料
A61L2/00
食品或接触透镜以外的材料或物体的灭菌或消毒的方法或装置；其附件
A61L2/02
应用物理现象
A61L2/08
辐照
A61L2/10
紫外线辐照
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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