一种涂装前表面硅烷化处理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种涂装前表面硅烷化处理装置，涉及烷化处理技术领域。本实用新型包括基板，基板的上侧设置有硅烷化处理本体，基板的下侧安装有电机、两转动组件，转动组件包括：第一固定板，第一固定板的一侧转动配合有第一转动杆、第一转动板；第一转动杆的周侧转动配合有三角板。本实用新型通过设置的滚轮，当转动电机时，电机的输出端带动滚轮转动至第一固定板的一侧，从而对滚轮的方向进行限定，从而对硅烷化处理装置进行固定，减少了硅烷化处理装置在使用时晃动的情况发生，提高了硅烷的纯度，而设置的第一固定板，减少了第一转动杆在转动时晃动的情况发生，从而提高了装置的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种涂装前表面硅烷化处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122060046.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-30
授权号 ：
CN216192702U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
张春琴
申请人 ：
浙江工业职业技术学院
申请人地址 ：
浙江省绍兴市镜湖新区曲屯路151号
代理机构 ：
杭州鼎乎专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
邢剑杰
优先权 ：
CN202122060046.0
主分类号 ：
C23C22/00
IPC分类号 ：
C23C22/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22/00
表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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